真空獲得設(shè)備廣泛用于航空、食品，生物科技，醫(yī)療業(yè)，制造業(yè)，冶金，石油化工、建筑等領(lǐng)域。磁控濺射離子鍍技術(shù)是指在真空室中將被鍍材料氣化，電離，在偏壓的作用下使粒子加速并轟擊工件表面，最終在工件表面形成連續(xù)薄膜。整個鍍膜過程都是在真空環(huán)境下進行的。因此，獲得穩(wěn)定、高真空度的真空系統(tǒng)對鍍膜工藝過程至關(guān)重要。真空獲得設(shè)備主要由真空泵加上各種閥門、管道及真空測量儀器組成。真空系統(tǒng)一般要求所用零件少，方便安裝、拆卸、操作;機組結(jié)構(gòu)緊湊且所占空間盡量小;工作性能穩(wěn)定、可靠。

真空泵可以看作一種氣體運輸裝置，它將氣體從被抽容器中抽吸出來，使容器中的壓力降低，是真空獲得設(shè)備的重要組成部分。真空泵的極限真空的范圍很大，從粗真空到10-12Pa高真空，抽速由零點幾升每秒到幾十萬升每秒。每種真空泵都有抽速范圍，往往根據(jù)不同的工作要求選擇合乎要求的真空泵。有時將各種真空泵互相銜接組合起來使用，以滿足各種不同真空工藝過程的需要。真空泵的選擇不能只依據(jù)一種指標(biāo)，要從多方面去考慮。選擇真空泵型有兩個主要依據(jù):(1)真空室空載所需的極限真空度。選擇真空泵時，***要滿足真空室的極限真空度低于所選真空泵的極限真空度。(2)真空室的工作壓強。真空泵抽速范圍是選擇真空泵類型的一重要技術(shù)指標(biāo)，因此，要保證工作壓強在所選真空泵的抽速壓強范圍內(nèi)。真空獲得設(shè)備按極限真空來分，可分為高真空獲得設(shè)備和低中真空獲得設(shè)備。